概述了针对原位离子辐照透射电子显微镜(TEM)实验的样品制备技术,并详细讨论了离子种类、能量和注量的选择与计算方法。最后,描述了实验的实施步骤,并附有代表性结果。
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概述了针对原位离子辐照透射电子显微镜(TEM)实验的样品制备技术,并详细讨论了离子种类、能量和注量的选择与计算方法。最后,描述了实验的实施步骤,并附有代表性结果。
有必要理解在高温、辐射或机械应力等多重极端环境共同作用下材料的行为。当这些应力因素叠加时,可能会产生协同效应,从而激活独特的微观结构演化机制。理解这些机制对于预测模型的输入与优化至关重要,同时也是下一代材料工程设计的关键。上述基本物理过程及内在机制需要借助先进工具才能开展研究。原位离子辐照透射电子显微镜(I³TEM)正是为探索这些原理而设计的。
为了定量研究材料中复杂的动态相互作用,必须仔细制备样品并周密考虑实验设计。特定的样品处理或制备方法很容易引入损伤或特征,从而干扰测量结果。样品制备没有唯一正确的方法,但容易出现诸多错误。本文重点指出了最常见的错误以及需要考虑的关键因素。I³TEM 具有许多可调节的变量和广阔的实验空间,因此最好在设计实验时明确具体的科学问题或一系列科学问题。
已在大量不同的样品几何形状、材料类别以及多种辐照条件下开展了实验。以下是利用I3TEM技术展示其独特原位能力的部分示例。通过滴涂法制备的金纳米颗粒被用于研究单个离子轰击效应;金薄膜被用于研究多束辐照对微观结构演化的影响;锆薄膜在辐照与机械拉伸的共同作用下被用于考察蠕变行为;银纳米柱则在高温、机械压缩与离子辐照同时作用的条件下被用于研究辐照诱导的蠕变现象。这些研究成果对结构材料、核能、能量存储、催化以及空间环境中的微电子等领域具有重要影响。
透射电子显微镜(TEM)因其能够在纳米尺度上观察样品而被广泛使用。在电子显微镜发展的早期,显微技术研究者就认识到原位透射电子显微镜(in situ TEM)是一种强大的工具,可用于直接观察晶体缺陷的作用、反应速率的动力学测量以及动态过程中基本机制的研究1。通过精确控制环境并直接观察材料的演化过程,可以获得对基本机制的深入理解。这些知识有助于建立材料响应的预测模型2,3,这在传统材料可靠性测试极为困难的应用中至关重要;例如材料处于极端遥远的位置、处于极其恶劣的环境中、需要超长时间服役,或上述因素的组合情况。辐射环境就是这样一个典型例子,由于辐射区域的危险性、放射性材料的处理难度以及效应显现所需的时间极长,开展实验研究面临重大挑战。
空间环境和核反应堆环境都是此类极端辐射环境的实例。用于核能的材料可能暴露于高能中子以及一系列高能带电粒子中。同样,在空间应用中,材料也可能暴露于多种带电粒子。要理解并建立材料在这些复杂而极端环境中辐照后演变行为的预测模型,必须深入了解发生在纳米尺度上的基本机制。原位透射电子显微镜(TEM)是一种可用于实时研究这些动态纳米尺度机制的工具4,5。
透射电子显微镜(TEM)中的原位离子辐照实验始于1961年,当时因钨电子枪灯丝受到污染而意外发射出O-离子6。哈威尔的研究人员首次将重离子加速器与透射电子显微镜连接,以直接观测离子辐照效应7。近年来,多个研究机构已建成配备多个离子加速器的显微镜系统,以开展原位多束离子辐照实验,这些机构包括日本原子能研究机构8、国家材料科学研究所9、阿贡国家实验室10、哈德斯菲尔德大学11、JANNUS Orsay12、武汉大学13、桑迪亚国家实验室14以及其它正在建设中的多个设施15。多束离子辐照可用于研究在复杂辐射环境中,材料因同时产生气体和位移级联损伤而引发的协同效应。通常在多束辐照实验中使用高温或低温TEM样品台,以更真实地模拟特定环境,因为温度在缺陷演化过程中起着重要作用。此外,还可结合力学测试样品台,以量化协同效应对材料力学性能变化随辐照剂量演变的影响。
离子辐照作为一种加速老化技术,已被用于模拟反应堆环境中中子辐照所产生的原子位移级联损伤,该技术能够在避免靶材长时间活化的同时,提供高出数个数量级的损伤速率16。桑迪亚国家实验室的I3TEM设施利用两种类型的加速器,从而实现多种离子种类和能量范围的选择。高能离子束由一台6 MV的串列加速器产生,低能离子则由一台10 kV的Colutron加速器产生。串列加速器已成功产生能量高达100 MeV的Au离子,而Colutron加速器已成功运行包括H、氘(D)、He、N和Xe在内的气态离子种类14,17。可利用D2和He混合气体等离子体,结合来自串列加速器的重离子束以及来自Colutron加速器的D2 + He混合离子束,实现三束离子同时辐照。
精确控制离子的产生可实现对材料剂量的精准调控,以达到目标损伤和注入浓度。在利用离子束辐照模拟中子辐照时,可计算以每个原子的位移数(dpa)表示的损伤剂量。该值表示原子从其原始晶格位置发生位移的平均次数,不同于总缺陷浓度。计算总缺陷浓度需要更先进的模拟工具,能够考虑复合效应。dpa 可通过离子辐照损伤模型计算,例如蒙特卡罗模拟软件“物质中离子的停止与射程”(Stopping Range of Ions in Matter, SRIM)18。SRIM 能够根据靶材成分、离子种类和离子能量,输出靶材中的空位分布、阻止本领以及离子射程。这些信息对于量化离子注入、辐射损伤、溅射、离子透射以及医学和生物学应用至关重要。
在考虑使用该工具研究辐照效应时,必须合理设计实验,以充分发掘该技术的优势。原位透射电镜(TEM)辐照技术为量化辐射环境中缺陷的动态演化过程提供了理想条件。尽管该技术能够揭示缺陷演化过程,包括位错环的层错/堆垛层错反应以及缺陷与晶界(GB)相互作用机制,但由于众所周知的薄膜效应,例如点缺陷及缺陷团簇向样品表面的流失,导致在将缺陷定量结果与宏观尺度辐照实验进行比较时存在显著的实验局限性19,20。
本文介绍了原位多束透射电子显微镜(TEM)实验中样品制备与安装的新考量因素和操作流程。同时阐述了实验设计的相关考虑,包括针对I³TEM设施的建模与几何结构方面的特殊要求,以及电子束对准和束流表征的实验方案。文中演示了如何利用SRIM计算特定深度离子注入所需的能量,并获得离子分布与损伤轮廓。尽管建模方法21,22及部分样品制备方法已有先前报道,但本文重点在于将这些信息应用于实验设计。此外,还展示了原位TEM实验的代表性结果,并描述了典型的数据分析方法。
警告:使用前请查阅所有相关的材料安全数据表(MSDS)。此外,须完成相关培训,并针对可能存在的危害采取适当的预防措施,这些危害包括但不限于所用化学品、高压电、真空、低温液体、纳米颗粒、激光以及电离辐射。确保已获得所有设备使用的授权并完成相应培训。请严格遵守操作规程中规定的所有适当安全措施(如辐射监测装置、个人防护装备等)。
注意:本方案中提供的所有参数均适用于此处指明的仪器及型号。
1. 原位离子辐照透射电子显微镜实验设计
注意:存在许多可变参数,导致潜在的实验空间巨大。设计系统性的实验,以回答特定的科学问题,将获得最大的成功。首先,选择合适的离子种类和能量,以模拟待研究的体系。

图1:迄今已运行的离子(以蓝色标出)、电荷态及I³TEM中的能量范围(单位:MeV)。 请点击此处查看此图的放大版本。
方程 (1)
方程 (2)
(方程 3)2. 超薄样品的制备及在透射电镜载网上的装载
注意:透射电子显微镜(TEM)样品的制备方法有多种。最适宜的方法取决于样品的初始几何形状、材料性质以及所关注的特征。有关制备方法的详尽列表和描述,请参阅透射电子显微镜样品制备手册37。以下是三种常用方法的描述。对于磁性材料,应采用粘结法,以防止薄膜或颗粒在TEM的磁场作用下脱落。应避免使用绝缘基底(例如氧化物),以尽量减少离子束诱导电荷引起的静电排斥。

图 2:薄膜浮离。 示意图显示了(a)将沉积在可溶性基底上的薄膜片段插入溶剂溶液中,(b)通过溶解基底的粘附层使薄膜浮起的横截面视图,(c)薄膜依靠表面张力在溶液表面自由漂浮的横截面视图,以及(d)使用透射电镜(TEM)载网从溶液中提起薄膜的过程。请点击此处查看该图的放大版本。

图3:示意图显示将样品安装在TEM载网上表面以防止遮蔽。 带 lacey carbon 或薄膜的载网(a),半圆形载网与FIB切割提取样品焊接于尖端(b)。 请点击此处查看此图的放大版本。
3. 离子束条件与校准
4. 透射电镜加载与成像条件

图 4:透射电子显微镜(TEM)样品装载与成像条件。 TEM样品台的俯视图,电子束方向垂直进入页面,样品台分别向正X方向(a)和负X方向(c)倾斜30°。沿样品台轴线的横截面视图,突出显示电子束(绿色)和离子束(蓝色),样品台分别向正X方向(b)和负X方向(d)倾斜30°,实现离子束从底部照射。高亮区域表示电子束与离子束均未被遮挡的区域。请点击此处查看此图的放大版本。
已对多种材料体系和不同样品制备方法开展了原位离子辐照透射电子显微镜(TEM)实验14,32,56,57,58,59,60,61,62,63,64,65,66,67,68,69,70, 71,72,73,74,75。以下列举若干代表性体系,以展示其多样性。样品制备方法包括纳米颗粒滴铸法、薄膜漂浮法、在半月形载网上的横截面聚焦离子束(FIB)提拉法、推拉式金属箔以及纳米柱制备法。
此处展示了一项关于单个离子轰击对金纳米颗粒(NPs)影响的实验60。通过利用液滴干燥过程中毛细力带动纳米颗粒移动的特性,可控制辐照窗口内颗粒的数密度。通过偏离中心滴加液滴,液滴在干燥过程中会将纳米颗粒拉向圆盘边缘。通过比较事件发生前后的图像,可突出显示损伤的主导机制(图5)。测量结果揭示了单个自离子辐照诱导损伤的多种机制,包括表面坑穴形成、溅射、丝状结构生成以及颗粒碎裂,且损伤类型取决于离子能量。在较低离子能量下观察到丝状结构的形成,而在高离子能量下则观察到坑穴形成、溅射和颗粒碎裂。这些不同的能量区域可用于研究电子阻止力与核阻止力的作用效应。

图5:单个46 keV离子对尺寸递减的纳米颗粒(NPs)的影响。请注意,所有显微照片的放大倍数相近。每对显微照片之间相隔1帧,此处约为0.25秒。(a–c)单个离子轰击60 nm的纳米颗粒,在表面形成一个凹坑,由白色箭头标示。(c)为差分图像,突出显示(a)与(b)之间的变化;仅存在于(a)中的特征呈暗色,而仅在(b)中新形成的特征呈亮色。(d–f)单个离子在20 nm纳米颗粒中形成凹坑。(f)为(d)与(e)的差分图像。本图已获剑桥大学出版社许可修改60。请点击此处查看此图的放大版本。
采用脉冲激光沉积法在NaCl基底上制备了金的纳米晶薄膜,用于原位多束透射电子显微镜(TEM)实验。随后将样品漂浮转移至去离子水中,并捞取到Mo的TEM载网上。样品在真空炉中于300 °C退火12小时,以弛豫沉积态的亚稳态纳米晶结构,最终获得具有超细晶粒尺寸的多晶金。
本研究中,使用2.8 MeV的Au4+离子来模拟中子辐照。该能量是根据SRIM模拟确定的,以使损伤峰值位于薄膜厚度范围内(图6a)。同时施加10 keV的He+离子以模拟中子辐照引发的核反应所产生的α粒子。选择该He离子能量,以确保离子被植入箔材厚度内,而非穿透过去(图6b)。

图 6:SRIM 模拟结果。 SRIM 计算得到的(a)位移和(b)浓度随深度的分布,用于不同离子种类辐照 Au 的情况。总 dpa 分布(D + He + Au)在(a)中以紫色星号表示。拟合线仅为视觉引导。本图已获 MDPI 许可修改自文献17。请点击此处查看此图的放大版本。
随后用金离子辐照该材料,并观察了损伤随注量的变化情况。微观结构中出现了由高能离子诱导产生的缺陷(图7)。随着暴露时间的增加,即注量的提高,损伤程度呈线性增加。在高剂量条件下,损伤位点的浓度过高,难以准确量化。

图7:透射电子显微镜(TEM)图像显示损伤点。 原位2.8 MeV Au4+离子辐照金箔的TEM图像,辐照剂量率分别为9.69 × 1010(a–c)和9.38 × 108 ions/cm2·s(e–g),累积注量分别为4.85 × 108、1.45 × 1012 和 3.39 × 1012 ions/cm2。(d,h)显示损伤点数量随时间呈线性增加。所有TEM图像均在相同放大倍数下拍摄。本图经MDPI许可修改自文献17。 请点击此处查看此图的放大版本。
为了研究多束离子同时与材料相互作用的影响,对金样品进行了双束和三束离子辐照(图8)。测量了空腔的形核、生长及演化过程。

图8:原位透射电子显微镜图像显示空洞的生长。 原位透射电子显微镜图像显示由于(a–d)双离子辐照(5 keV D + 1.7 MeV Au)引起的空洞随时间生长,以及由于(e–h)三离子辐照(10 keV He、5 keV D 和 2.8 MeV Au)引起的空洞形成与塌陷随时间的变化。虚线圆圈在每幅图像中突出显示所关注的空洞区域。本图经MDPI许可修改使用17。 请点击此处查看此图的放大版本。
为了研究锆(Zr)在辐照条件下产生的蠕变行为,采用溅射沉积法在绝缘体上硅晶圆上制备锆薄膜,并结合光刻图形化和深反应离子刻蚀工艺,加工出一种微机电系统(MEMS)装置。图9展示了自支撑的锆样品以及实现原位拉伸测试的硅基推转-拉伸测试框架。实验中使用1.4 MeV的Zr离子在加载条件下对样品进行辐照,以测定锆材料的辐照蠕变响应。通过在透射电子显微镜(TEM)中开展实验,可实时观察纳米尺度下的动态机制。测量结果揭示了样品织构的变化以及样品长度的增加。由于样品为薄箔几何结构、实验在室温条件下进行且辐照损伤程度较低,因此未预期出现明显的体积肿胀。这一推断也得到了实验结果的证实——未观察到气泡和空洞的形成。

图9:原位力学测试。(a)推拉式装置的扫描电子显微镜图像,其中锆拉伸试样的位置已标出。(b)来自(a)中装置的低倍透射电子显微镜图像。(c)测试区域纳米晶锆显微结构的高倍明场透射电子显微镜图像。本图经Springer Nature许可修改使用75。请点击此处查看此图的放大版本。
在原位离子辐照透射电镜实验中,可同时施加额外的力学应力状态。图10 展示了关于高温辐照诱导银纳米柱蠕变的研究工作67。该实验利用压电纳米压痕仪对透射电镜样品施加可控应力。纳米柱样品通过聚焦离子束(FIB)加工,由生长在硅基底上的1 μm厚银膜制备而成。样品使用3 MeV的Ag³+离子进行辐照,并利用1064 nm激光束对样品加热,激光束与离子束和电子束共线照射。研究结果表明,辐照与高温共同作用下的蠕变速率比室温辐照和高温热蠕变快数个数量级。

图10:辐射诱导蠕变。在75 MPa和125 MPa载荷应力下,辐射诱导蠕变速率随柱状结构直径的变化关系(左);原位透射电镜(TEM)观测银纳米柱在3 MeV银离子辐照下发生辐射诱导蠕变的视频关键帧(右)。本图经Elsevier许可修改自文献67。 请点击此处查看此图的高清版本。
Hosemann 等人已深入描述了用于浅层离子辐照的纳米柱制备注意事项76。其中一个关键考虑因素是纳米柱的形状。在如此微小的尺度下,任何偏离理想几何形状的情况都可能对力学性能产生显著影响。由于环形铣削几何结构会导致尖端锥度化,因此矩形棱柱尖端远优于圆柱形尖端。
这些代表性结果展示了原位离子辐照透射电子显微镜技术可实现的多种材料体系、制备方法以及复杂环境。在每种情况下,精细的样品制备和实验参数的周密规划对于获取有意义的数据至关重要。下文将进一步讨论这些方面的详细内容。
本文所述操作步骤专属于 I3桑迪亚国家实验室设有透射电子显微镜(TEM)设施,但该通用方法也可应用于其他原位离子辐照透射电镜设施。存在一个名为“原位辐照透射电镜研讨会”(Workshop On TEM With In situ Irradiation, WOTWISI)的机构组织,定期举办双年度会议,讨论离子加速器与电子显微镜相关议题。日本拥有多处此类设施,包括日本原子能研究机构(Japan Atomic Energy Research Institute, JAERI)的设施。8,以及日本物质材料研究机构(National Institute for Materials Science,NIMS)9另一家具备原位离子辐照能力的设施是位于哈德斯菲尔德大学的材料研究用显微镜与离子加速器设施(Microscope and Ion Accelerator for Materials Investigations, MIAMI)。77CSNSM-JANNUS 奥赛设施78 配备 FEI Tecnai G2 200 kV 下工作的 20 TEM,配备 IRMA 离子注入器。阿贡国家实验室的 IVEM-Tandem 设施是一个核科学用户设施10这些设施以不同的方式集成离子加速器,导致离子束与电子束的交角各不相同。一些日本的设施将离子束以30–45°的角度引入电子束,ANL和MAIMI similarly在30°,JANNUS在68°,而I³TEM和武汉大学的装置中离子束与电子束垂直。
根据样品的材料种类及其初始形态,可采用多种技术制备透射电子显微镜(TEM)试样。试样必须足够薄(通常小于约100 nm),才能在TEM中成像。有关试样制备的多种方法,可参考TEM样品制备方法学手册37。其中操作最为简便的是纳米颗粒,可直接通过滴涂法进行制样。沉积在可溶性基底上的薄膜也较易制备(图2)。块体金属材料可通过先机械抛光至较薄,再使用喷射电解抛光法穿孔,使孔周围区域变薄至适合TEM观察的厚度。聚焦离子束(FIB)提取法是一种广泛用于多种材料TEM制样的成熟方法,此前已有详尽描述39,79,80。该技术的主要优势之一是能够选择性地观察特定区域,如晶界和相界。另一优势在于可制备多种试样几何形状,包括:薄箔、纳米拉伸试样、纳米柱以及原子探针针尖,适用于附加应力环境或关联分析研究。然而,在原位离子辐照实验中,FIB制备试样的主要缺点是FIB过程本身引入的损伤会与实验过程中积累的损伤相互叠加,从而难以进行定量分析。生物样品或聚合物样品可通过低温FIB(cryo-FIB)或低温超薄切片(cryo-microtomy)方法制备,但这些过程在本文中不作详细说明。
在规划离子束注入或辐照实验时,必须考虑离子的若干重要参数。在研究辐射效应时,通常需要控制穿透深度、通量/注量以及辐射损伤等变量。这些参数可通过多种模拟技术进行建模。材料中离子的停止与射程(Stopping Range of Ions in Materials,SRIM)是一种蒙特卡洛模拟程序,用于计算材料在受到高能离子束照射时的离子沉积分布21,81。SRIM 的一种替代方法是 Robinson 模型82,该模型采用多种函数来模拟高能离子与材料相互作用中的不同物理过程。另一种替代方案是为航空航天应用中的单粒子效应开发的模型,该模型可被调整用于离子束实验83。SRIM 使用 Kinchin-Pease84 方程来模拟辐射引起的原子位移。该软件易于使用,可快速计算多种离子、靶元素和离子能量条件下的结果,并提供多种有用的输出形式。然而,该软件在可选模型方面存在局限性,且由于其为蒙特卡洛程序,需进行大量迭代,模拟规模越大,运行所需时间越长。Robinson 模型采用了一种改进的 Kinchin-Pease 方程84,其与实验结果的一致性更高,但使用难度较大。由于 SRIM 被广泛采用且操作简便,本文采用了 SRIM 的使用方法,该方法也已普遍成为工业标准。
在考虑多束流原位透射电子显微镜(TEM)时,一个主要限制因素是样品的几何形状。由于TEM是一种投影成像技术,且离子束呈线性,电子束或离子束可能被遮挡,从而影响实验结果。样品台、样品支架甚至样品本身的其他部分都可能产生电子束和离子束的阴影。为避免样品台对样品造成遮挡,大多数样品台的倾斜角度限制在25°至40°之间。此外,还需特别考虑样品自身可能产生自遮挡,或被TEM载网遮挡的几何情况。因此,在安装样品时,应谨慎操作,尽量降低遮挡的可能性。对于采用聚焦离子束(FIB)将样品安装在柱状载网上的情况,这意味着应将样品固定在柱体最外端和最高点的位置。
对于涉及多种离子同时辐照的实验,存在一定的局限性。由于不同种类的离子由不同的加速器或离子源产生,因此必须通过磁体将第二束离子束偏转至第一束的路径上。对于所述仪器,该偏转角度约为20°。为实现两束离子束共线,偏转过程要求束流刚度具有较高的比值。束流刚度(Bρ)定义为总动量与总电荷之比,可通过以下公式计算:
方程 (4)
其中,p 为动量,q 为电荷,β 为粒子偏转速度比例系数(β = ν/c),m0 为离子的静止质量,c 为光速,γ 为相对论洛伦兹因子:
公式 (5)
这意味着在多束实验中,最好分别使用高能重离子和低能轻离子,例如 Au 和 He。如果同一加速器产生多束离子,则这些离子必须具有相同的质荷比,例如 4He+ 和 2D2+。成像条件也可能影响离子束。在高倍成像模式下,物镜的磁场可能强到足以使离子路径发生偏转。在调节离子束时,应始终考虑所需的分析类型。
透射电子显微镜(TEM)中的衬度可能来源于厚度、相位、晶体有序性以及化学成分的差异。根据待观察的特征,应考虑多种不同类型的衬度和成像条件。理解衍射衬度和相位衬度背后的机制非常有用。掌握如何调节电子显微镜以实现双光束动力学、明场运动学以及弱束暗场成像条件也同样重要。这些内容在 Jenkins 和 Kirk(2000)中有详细描述50。
为了分析位错,必须对不同角度的多个衍射花样进行标定,以确定倒易空间晶格矢量(g)。随后可利用双束成像条件确定位错的柏氏矢量(b)。在弱束暗场成像中,位错能够以更高的分辨率和对比度被观察到。当位错密度较高或存在大量不全位错时,通常采用该方法。为了计算体积分位错密度,必须精确测量感兴趣区域中样品薄区的厚度。这可以通过电子能量损失谱或会聚束电子衍射等技术实现。对于小角度晶界,可在双束动力学条件下将晶界中的位错识别为网络结构。对于大角度晶界,一个晶粒在双束动力学条件下成像,另一个晶粒则在运动学衍射条件下成像。孪晶界可采用类似方法进行表征。利用菲涅尔成像条件可观察充气气泡和孔洞。在图像略微离焦且处于运动学衍射条件下时,小空腔更易被观察到。采用欠焦条件可测定其真实直径。气泡还可能引起应变场,在气泡较小时可对其应变值进行估算。自动晶体取向映射(ACOM)可用于绘制多个晶粒及其取向分布,类似于扫描电子显微镜(SEM)中的电子背散射衍射(EBSD)技术。为避免重叠衍射花样的干扰,最好使晶体贯穿整个样品厚度。
可以使用其他外部应力因素(如温度和机械应力)进行实验。样品制备和实验设计方面的考虑与多束流实验基本相同。需注意确保加热方法和温度范围适用于相应材料。还必须考虑样品几何形状,以避免遮蔽效应。用于加热或机械测试的特殊样品台具有特定的几何限制,必须查阅其技术规格14。这些应力因素的组合应用也是可行的。原位机械测试需要额外的样品制备,以达到合适的几何构型。已有专门的样品台可用于在不同加载条件下测试材料的力学性能,例如:拉伸、压缩、弯曲、疲劳和蠕变。原位加热既可在辐照过程中进行,也可在辐照后用于退火研究。基于MEMS或导电加热的样品台可用于控制最高达1000 °C的温度。若使用原位激光加热,可使样品温度达到数千摄氏度33。通过原位样品台,还可使样品处于不同的环境条件下,包括各种气体、液体,甚至腐蚀性环境。
总之,原位多束透射电子显微镜实验能够模拟极端环境,并在纳米尺度上实时观察材料的微观结构及其演化过程。通过这些实验获得的关于动态过程基本机制的深入认识,有助于建立预测模型,为下一代材料的设计提供指导。按照所述方法制备样品至关重要,以确保实验成功几率最大化。
作者无任何利益冲突需要披露。
作者谨此感谢 Daniel Bufford、Samuel Briggs、Claire Chisolm、Anthony Monterrosa、Brittany Muntifering、Patrick Price、Daniel Buller、Barney Doyle、Jennifer Schuler 和 Mackenzie Steckbeck 在技术和科学方面的贡献。Christopher M. Barr 和 Khalid Hattar 的工作得到了美国能源部科学办公室基础能源科学项目的全额支持。本研究部分工作在美国能源部(DOE)科学办公室下属的科学用户设施——集成纳米技术中心完成。桑迪亚国家实验室是一家由国家技术与工程 & Engineering Solutions of Sandia, LLC(霍尼韦尔国际公司全资子公司),根据合同号DE-NA-0003525为美国能源部国家核安全管理局提供服务。本文所表达的观点不一定代表美国能源部或美国政府的观点。
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